Der korrekte und vorsichtige Umgang mit Objektiven im Zeiss Mikroskop

[chishoro]

Ich verwende ein Zeiss ICM 405 Mikroskop - mit mehreren Objektiven aus allen 160 Baureihen.

Zum Teil weisen diese Objektive Kratzer - durch den Kontakt mit dem Tisch oder dem Präparat auf - leider auch von mir.

Ich habe mir jetzt angewöhnt, vor dem drehen des Revolvers die Objektive weit aus dem Fokus zu nehmen - wobei hier die Parafokalitaet nichts
mehr nützt.

Dabei sind mir dann folgende Fragen in den Sinn gekommen.

- Sollte man davon ausgehen können, das Objektive von Zeiss mit der gleichen Deckglasskorrektur und dem gleichen 45 mm Arbeitsabstand
  auch Parafokal sind (so z.B. also ein Zeiss Neofluar 40 mit einem Zeiss 10 POL)
- Gibt es dazu Ausnahmen (die LD Objektive ?)
- Wie sieht es beim relativen Arbeitsabstand aus - ist z.B. ein Zeiss 10 POL Achr. Objektiv jetzt fokussiert kann man - soweit es das Objekt
   betrifft ein Zeiss Plan Neofluar 63 mit Deckglasskorrektur einfach eindrehen - ohne Kontakt mit dem Objekt riskieren zu müssen ?
- Welchen Einfluss haben bei inversen Mikroskopen der Tisch resp. der Einzatz ?
- Welche Methode wird empfohlen um Unfälle zu vermeiden ? Beim drehen des Revolvers kann ich die Objektive nicht sehen.


          Gruss,

                     Rory

[Rene]

- Sollte man davon ausgehen können, das Objektive von Zeiss mit der gleichen Deckglasskorrektur und dem gleichen 45 mm Arbeitsabstand
 auch Parafokal sind (so z.B. also ein Zeiss Neofluar 40 mit einem Zeiss 10 POL)
- Gibt es dazu Ausnahmen (die LD Objektive ?)

yes, also the LD's.

- Wie sieht es beim relativen Arbeitsabstand aus - ist z.B. ein Zeiss 10 POL Achr. Objektiv jetzt fokussiert kann man - soweit es das Objekt
  betrifft ein Zeiss Plan Neofluar 63 mit Deckglasskorrektur einfach eindrehen - ohne Kontakt mit dem Objekt riskieren zu müssen ?

yes; see next item:

- Welchen Einfluss haben bei inversen Mikroskopen der Tisch resp. der Einzatz ?
- Welche Methode wird empfohlen um Unfälle zu vermeiden ? Beim drehen des Revolvers kann ich die Objektive nicht sehen.

You will need to machine an adapterplate (Einsatz?) for your sedimentation chambers, if the coverglass of the chamber is level to the surface below, the objectives do not bump into the plate.

HTH, Rene.

[Dr. Jekyll]

Hallo Rory,

die meisten 100fach-Objektive der alten Zeiss 160er Baureihe (nicht die ganz silbernen) lassen sich in eine
Parkposition bringen. Da sie eher selten benutzt werden, sie aber wegen des geringen Arbeitsabstands besonders gefährdet sind, ist dies sehr sinnvoll. Man schiebt sie am federnden Unterteil hoch bis zum Anschlag und dreht es dann nach rechts. In dieser Stellung rastet es nun ein.


Gruß
       Harald

[Nomarski]

Hallo,

wenn die Objektive alle in Ordnung sind, sollte es eigentlich so sein, daß man vom 10er über das 40er zum 63 auf das 100er mit Öl umschwenken kann, ohne daß Gefahr droht, daß die Frontlinse auf dem Deckglas scheuert oder gar die Federung in Aktion tritt. Die Schärfe ist nach dem Umschlagen dann nur durch etwa eine halbe bis eine Umdrehung nachzukorrigieren.

Wenn man das Präparat wechselt, das möglicherweise auf einem dickeren oder dünneren Objekttäger liegt, ist es sinnvoll, wieder beim schwachen Objektiv anzufangen, da man allein schon wegen dem größeren Arbeitsabstand auf der sicheren Seite ist.

Bei Präparaten mit dicken Schicht des Einschlussmittels oder Frischpräparaten, wo sich evtl. ein Sandkorn unter das Deckgläschen eingeschlichen hat sollten Objektive mit geringem Arbeitsabstand wie das erwähnte Plan-Neofluar 63 mit Deckglaskorrektur besser gemieden werden.

Schönen Gruß an das ICM 405

[chishoro]

Da gäbe es dann noch min. 2 Spezialfälle die mir Aufgefallen sind - die wären:

1) Bewegen des Tisches und somit der zentrierten Reduzierplatte. Stellt man z.B. ein Objekt mit den Epiplan Pol 4 im Auflich scharf, bewegt dann
    die Tischplatte und schaltet dann auf des Epiplan POL 80 (Arbeitsabstand 0.09    mm) so ist die Wahrscheinlichkeit dass das Epiplan POL 80
    in der Reduzierplatte landet relative groß. Dass kann man bereits daran erkennen das es auf eBay relativ wenige Epiplan 80 HD oder POL 80
    Objektive ohne zentrale Kratzer resp. Absplitterung am Rande gibt...

2) Die Epiplan Objektive Auflicht mit INKO Prismen - die ersten Ausgaben lassen sich nämlich kaum alle gleichzeitig in den Objektivrevolver drehen
    so dass sie ganz parafokal sind - ca 0.3 mm Unterschied ist das Beste was ich hinkriege.

Man beachte dass im Gegensatz z.B. zum Standard oder Universal die Objektive beim Drehvorgang kaum sichtbar sind...

[Nomarski]

Bewegen des Tisches und somit der zentrierten Reduzierplatte. Stellt man z.B. ein Objekt mit den Epiplan Pol 4 im Auflich scharf, bewegt dann
    die Tischplatte und schaltet dann auf des Epiplan POL 80 (Arbeitsabstand 0.09    mm) so ist die Wahrscheinlichkeit dass das Epiplan POL 80
    in der Reduzierplatte landet relative groß.

Diese Reduzierplatte ist von der Unterseite mit einer Wölbung ausgearbeitet als Freimachung für die Objektive. Aus Stabilitätsgründen kann das Blech nur in der Nähe der Bohrung dünnwandig gehalten werden. Wenn der Tisch so steht, daß der Mittelpunkt der Bohrung auch der optischen Achse entspricht, dürfte es keine Kollision beim Umschlagen mit dem Epiplan Pol 80er geben. Ist die optische Achse am Rand der Bohrung, kann es schon dazu kommen, daß die Reduzierplatte etwas angehoben wird.

Die Epiplan Objektive Auflicht mit INKO Prismen - die ersten Ausgaben lassen sich nämlich kaum alle gleichzeitig in den Objektivrevolver drehen
    so dass sie ganz parafokal sind - ca 0.3 mm Unterschied ist das Beste was ich hinkriege.

Das kenne ich von meinem Metallmikroskop auch, daß man nur jedes zweite Revolverloch mit einem Inko bestücken kann. Nun ist der Revolver vom ICM405 schon 'ne Ecke größer und der Platz reicht immer noch nicht?

Man beachte dass im Gegensatz z.B. zum Standard oder Universal die Objektive beim Drehvorgang kaum sichtbar sind...

Auch nicht von der Seite?